上海市某半导体器件电源芯片生产厂，晶圆生产环节中产生含硅、氟的特殊性生产废污水，设定外理规模化1200吨/日。生产废污水化学物质麻烦，内含纳米技术级硅颗粒物及盐酸，以往外理形式难易达到。 废气含量及的来源 重点废弃物物 ：氢氧化铁硅（100-500nm比表面积）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 來源工作 ：晶圆刻蚀焦化废水处理工艺（45%）、CMP物理化学自动化专用设备抛光剂焦化废水处理工艺（40%）、专用设备清扫冲洗水（15%） 外理方法程序流程 科学创新主要采用"普通机械石雕文化沉淀+珍禽膜分离出来"工艺自驾线路： 钙盐沉淀出的 ：添加氯化钙洗去氟化合物（转换成CaF2石雕文化沉淀） 斜管沉淀池表现 ：pp斜板沉淀池剂做到溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔直径膜挪用微细粒子 反固化软件系统 ：脱盐率>98%，收旧率75% 多效蒸发凝结 ：浓水段实行氟化物零摆放 最中功效 氟化物浓度值：<8mg/L（超过国七级标准规范10mg/L） 硅成分：<5mg/L 水物资造纸废水处理率：70%适用于一系列混凝土冷却塔皮肤补水 危险废弃物回收利用：蒸馏渣子量较传统与现代工艺流程减掉60%