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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造出厂坐落西北中南部,重点生产的方式8英尺半导体技术晶圆,日访问量废污水的排放口量约800吨。仍然生产的方式时中运用过量氢佛酸做好晶圆蚀刻,会导致废污自来水中氟化物溶度多达200-300mg/L,远超地区的排放口标准的(10mg/L这)。 废水处理工艺材质及由来 化工废水基本来源于这三个方式: 晶圆蚀刻步骤 :含高浓硫酸浓度氟化物(HF)、硝酸银及一少部分血本属 耐腐蚀设备打磨抛光(CMP)废水处理方法 :含纳米级级硅顆粒、巧妙络合剂 机刷洗废气 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机肥料物 除理方法方案 选择"有机化学水解+混泥土水解+长度进行过滤"三阶段补救设计: 两级办理 :加药氯化钙和氢脱色钙,建成氟化钙发展,氟化物快速清理率达85% 五级外理 :增长PAC(配位聚铝)和PAM(高分子聚乙烯酰胺),取除固体态造成的环境有害特性 3级解决 :能够多媒质滤水器和活性酶炭物理吸附,满水后氟化物盐浓度平衡在8mg/L下面 重要机械分为:pH自功调结设备、斜管沉淀物中池、板框淤泥压滤机(淤泥脱水烘干)。 终极治疗效果 項目作业2年监测器数据报告彰显: 氟化物人均溶度:7.2mg/L(不超过的国家规格) COD的还原率:92% 活性污泥含水分率:≤65% 年二手回收氟化钙副食品约150吨,实现目标资源英文化充分利用

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